ii. 发射电流：一般不要定义，如果定义则，粒子电量随流强和粒子数改变。 iii. 散角，与平面法向最大夹角，发射角度从0度到最大散角随机选取。

8.2.2.2 空间电荷限制流模式：

定义了阴极电压和阳极电压后，最后发射电流大小由空间电荷限制确定，故该发射称为空间电荷限制电流。 i. 发射电压：粒子出射面电压。 ii. 参考电压：粒子在两个电压差作用下出射。 iii. 虚阴极距离系数：设为1.5，则表示虚拟发射位置与实际发射表面的间距

是最大发射网格对角线长度的1.5倍。

iv. 发射表面温度：在该模式不影响发射。 v. Maxwellian distribution散角：Maxwell-Boltzmann distribution的分布层次 vi. 发射角度： 8.2.2.3 热阴极模式：

与空间电荷相比，增加了如下两个定义。 i. Work function：脱离表面，进入真空所需的能量。 ii. Richardson常量：Richardson-Dushman 方程的线性系数，可以给定，也可

通过材料特性进行计算。 详见理论部分

8.2.2.4 场致发射模式：

i. ii.

Linear factor：场致发射模式公式线性系数 Exponential factor：场致发射模式指数系数

8.2.3 粒子监视器设置：

由于粒子都在同一时刻进入腔体，故对于Particle tracking只有一种监视器，且功能很完善，粒子监视器可记录记录穿过监视器表面的详细信息，速度，散角，能量，gamma，beta等。注意，由于粒子一次发射，故这时的电流没有意义，但可以通过电流粒子数量在束流管各个位置的衰减情况。

8.2.3.1 General settings:

i. 粒子源：记录哪些源发射出来的粒子，可以选择全部。

ii.

选择记录模式：记录once(每个粒子记录一次)，always(每个粒子记录多次)，时间域(某个时间域内)

8.2.3.2 Plot settings:

x-y：分别定义参考量。

Histogram：记录某一量的统计分布，横轴为量，纵轴为该量的归一化统计概率。

比如要查看相空间：Abscissa选择position，ordinate选择为angle，当position 和angle 都是某一坐标，则记录相空间，通过相空间可看出聚焦和散焦形态。

8.3 电磁工作室设置

8.3.1 相关元件建模：

电压建模：只能选择PEC表面进行设置。 i. 电压类型：Fixed和Floating，Fixed为电压恒定，而floating则不能进行

电压设置，电压会随着周围电荷的变化而变化。

电荷建模：

分两种，固定电荷和分布电荷。固定电荷只能定义在PEC表面。而分布电荷可以定义在任意材料表面或内部

永磁体建模：不能定义在PEC表面，一般定义在normal材料上 线圈设置：

从curve中定义线圈，一般在同一curve中建立两条路径，一条线圈的截面，一条是线圈绕行路径。

外源源场设置：必须定义相应的磁场全部为normal，才可定义，给定边界磁场 电流电压设置：

通过curve来定义该线上的电流与电压，定义电损失材料处理损失材料中的电流传导问题。