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ii. 发射电流:一般不要定义,如果定义则,粒子电量随流强和粒子数改变。 iii. 散角,与平面法向最大夹角,发射角度从0度到最大散角随机选取。

8.2.2.2 空间电荷限制流模式:

定义了阴极电压和阳极电压后,最后发射电流大小由空间电荷限制确定,故该发射称为空间电荷限制电流。 i. 发射电压:粒子出射面电压。 ii. 参考电压:粒子在两个电压差作用下出射。 iii. 虚阴极距离系数:设为1.5,则表示虚拟发射位置与实际发射表面的间距

是最大发射网格对角线长度的1.5倍。

iv. 发射表面温度:在该模式不影响发射。 v. Maxwellian distribution散角:Maxwell-Boltzmann distribution的分布层次 vi. 发射角度: 8.2.2.3 热阴极模式:

与空间电荷相比,增加了如下两个定义。 i. Work function:脱离表面,进入真空所需的能量。 ii. Richardson常量:Richardson-Dushman 方程的线性系数,可以给定,也可

通过材料特性进行计算。 详见理论部分

8.2.2.4 场致发射模式:

i. ii.

Linear factor:场致发射模式公式线性系数 Exponential factor:场致发射模式指数系数

8.2.3 粒子监视器设置:

由于粒子都在同一时刻进入腔体,故对于Particle tracking只有一种监视器,且功能很完善,粒子监视器可记录记录穿过监视器表面的详细信息,速度,散角,能量,gamma,beta等。注意,由于粒子一次发射,故这时的电流没有意义,但可以通过电流粒子数量在束流管各个位置的衰减情况。

8.2.3.1 General settings:

i. 粒子源:记录哪些源发射出来的粒子,可以选择全部。

ii.

选择记录模式:记录once(每个粒子记录一次),always(每个粒子记录多次),时间域(某个时间域内)

8.2.3.2 Plot settings:

x-y:分别定义参考量。

Histogram:记录某一量的统计分布,横轴为量,纵轴为该量的归一化统计概率。

比如要查看相空间:Abscissa选择position,ordinate选择为angle,当position 和angle 都是某一坐标,则记录相空间,通过相空间可看出聚焦和散焦形态。

8.3 电磁工作室设置

8.3.1 相关元件建模:

电压建模:只能选择PEC表面进行设置。 i. 电压类型:Fixed和Floating,Fixed为电压恒定,而floating则不能进行

电压设置,电压会随着周围电荷的变化而变化。

电荷建模:

分两种,固定电荷和分布电荷。固定电荷只能定义在PEC表面。而分布电荷可以定义在任意材料表面或内部

永磁体建模:不能定义在PEC表面,一般定义在normal材料上 线圈设置:

从curve中定义线圈,一般在同一curve中建立两条路径,一条线圈的截面,一条是线圈绕行路径。

外源源场设置:必须定义相应的磁场全部为normal,才可定义,给定边界磁场 电流电压设置:

通过curve来定义该线上的电流与电压,定义电损失材料处理损失材料中的电流传导问题。