泓域咨询MACRO/ 年产xx吨CMP化学机械抛光材料项目可行性研究报告
年产xx吨CMP化学机械抛光材料项目可行性研究报告
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第一章 概论
一、项目概况
（一）项目名称
年产xx吨CMP化学机械抛光材料项目
CMP化学机械抛光（ChemicalMechanicalPolishing）工艺是半导体制造过程中的关键流程之一，利用了磨损中的“软磨硬”原理，即用较软的材料来进行抛光以实现高质量的表面抛光。通过化学的和机械的综合作用，从而避免了由单纯机械抛光造成的表面损伤和由单纯化学抛光易造成的抛光速度慢、表面平整度和抛光一致性差等缺点。
（二）项目选址 某某经济新区
节约土地资源，充分利用空闲地、非耕地或荒地，尽可能不占良田或少占耕地；应充分利用天然地形，选择土地综合利用率高、征地费用少的场址。
（三）项目用地规模
项目总用地面积53126.55平方米（折合约79.65亩）。 （四）项目用地控制指标
该工程规划建筑系数67.71%，建筑容积率1.34，建设区域绿化覆盖率7.02%，固定资产投资强度187.57万元/亩。
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（五）土建工程指标
项目净用地面积53126.55平方米，建筑物基底占地面积35971.99平方米，总建筑面积71189.58平方米，其中：规划建设主体工程53575.45平方米，项目规划绿化面积4996.14平方米。
（六）设备选型方案
项目计划购置设备共计126台（套），设备购置费5879.32万元。 （七）节能分析
1、项目年用电量684450.79千瓦时，折合84.12吨标准煤。 2、项目年总用水量50858.59立方米，折合4.34吨标准煤。
3、“年产xx吨CMP化学机械抛光材料项目投资建设项目”，年用电量684450.79千瓦时，年总用水量50858.59立方米，项目年综合总耗能量（当量值）88.46吨标准煤/年。达产年综合节能量31.08吨标准煤/年，项目总节能率21.61%，能源利用效果良好。
（八）环境保护
项目符合某某经济新区发展规划，符合某某经济新区产业结构调整规划和国家的产业发展政策；对产生的各类污染物都采取了切实可行的治理措施，严格控制在国家规定的排放标准内，项目建设不会对区域生态环境产生明显的影响。
（九）项目总投资及资金构成