2018-2024年中国CMP抛光液市场深度调查与投资策略报告（目录）
中国产业研究报告网
2018-2024年中国CMP抛光液市场深度调查与投资策略报
告（目录）
【出版日期】2018年
【交付方式】Email电子版/特快专递
【价 格】纸介版：7000元 电子版：7200元 纸介+电子：7500元 【报告链接】http://www.chinairr.org/report/R02/R0206/201801/09-249409.html
报告摘要及目录
抛光液主要是对工件有化学腐蚀作用和机械作用，最终达到对工件的抛光。抛光液的基本要求包括流动性好、不易沉淀和结块、悬浮性能好、无毒、低残留、易清洗等。抛光液的精确混合和批次之间的一致性对获得产品单片之间、批与批的重复性是至关重要的，其质量是避免在抛光过程中产生表面划痕的一个重要因素。
按照磨粒的不同，抛光液主要包括二氧化硅抛光液、氧化铈抛光液、氧化铝抛光液和纳米金刚石抛光液等。
中低端领域已国产化，芯片抛光液基本依赖进口。目前在不锈钢、铝、钨等中低端市场的抛光液基本实现国产化，国内企业如天津西丽卡、天津晶岭和湖南皓志，其产品只能用于不锈钢、手机玻璃盖板等领域的抛光，还达不到晶圆抛光的要求。由于芯片抛光液具有很高的技术要求，该抛光液配方处于完全保密状态，我国尚无企业生产，所以在芯片等高端领域则一直依赖进口。 芯片抛光液生产企业主要被在美国、日本、韩国企业所垄断。全球芯片抛光液生产企业主要被日本Fujimi、Hinomoto Kenmazai公司，美国卡博特、杜邦、Rodel、Eka，韩国的ACE等所垄断，占据全球90%以上的高端市场份额。
虽然我国半导体设计及制造水平已有一定程度的提升，但在同属技术核心的一些
工艺领域，包括在硅晶圆及芯片进行工艺处理的一些核心材料仍为外资品牌及技术掌控，例如进行平坦化处理的化学机械抛光CMP(chemical mechanical polishing)材料缺乏自主供应。
CMP 工作示意图
中国产业研究报告网发布的《2018-2024年中国CMP抛光液市场深度调查与投资策略报告》共十二章。首先介绍了CMP抛光液行业市场发展环境、CMP抛光液整体运行态势等，接着分析了CMP抛光液行业市场运行的现状，然后介绍了CMP抛光液市场竞争格局。随后，报告对CMP抛光液做了重点企业经营状况分析，最后分析了CMP抛光液行业发展趋势与投资预测。您若想对CMP抛光液产业有个系统的了解或者想投资CMP抛光液行业，本报告是您不可或缺的重要工具。
本研究报告数据主要采用国家统计数据，海关总署，问卷调查数据，商务部采集数据等数据库。其中宏观经济数据主要来自国家统计局，部分行业统计数据主要来自国家统计局及市场调研数据，企业数据主要来自于国统计局规模企业统计数据库及证券交易所等，价格数据主要来自于各类市场监测数据库。
报告目录：
第一章 2016年中国抛光液行业市场运行形势分析 第一节 2016年中国抛光液行业发展概况 第二节 中国抛光液行业发展走势 二、中国抛光液行业市场分布情况 三、中国抛光液行业发展趋势分析
第二章 2016年中国抛光液产业发展环境分析 第一节 2016年中国宏观经济环境分析 一、GDP历史变动轨迹分析
二、固定资产投资历史变动轨迹分析 三、2016年中国宏观经济发展预测分析 第二节 中国抛光液行业主要法律法规及政策 第三节 2016年中国抛光液产业社会环境发展分析
第三章 2016年中国抛光液产业发展现状 第一节 抛光液行业的有关概况 一、抛光液的定义