一、概念：
1. 全口义齿：为牙列缺失患者制作的修复体。
2.牙列缺失：是指患者上颌、下颌或上下颌的天然牙全部缺失.是临床上常见的修复病例.多见于老年人。
3.牙列缺损：上颌或下颌牙列内的不同部位有不同数目的牙齿缺失,同时牙列内有不同数目的天然牙存在。
4.无牙颌：牙列缺失患者的上下颌称为无牙颌 5. 前弓区：在口腔前庭内.颊系带之间为前弓区。 6. 后弓区：在口腔前庭内.颊系带以后为后弓区。
7.颧突：位于后弓区内相当于上颌第一磨牙根部的骨突起处.此区黏膜薄.为避免前后翘动.相应的基托组织面做适当缓冲。
8.上颌结节：是上颌牙槽嵴两侧远端的圆形骨突.表面有黏膜覆盖。与颊黏膜之间形成颊间隙。
9. 翼上颌切迹： 位于上颌结节之后.是蝶骨翼突与上颌结节后缘之间的骨间隙.表面覆盖黏膜.形成软组织凹陷.是上颌全口义齿两侧后缘的界限。
10. 切牙乳突： 位于腭中缝之前分.上颌中切牙的腭侧.为一梨形或卵圆形的软组织突起。 11.上颌硬区：位于上颌腭穹隆中部的前份.骨组织呈嵴状隆起.又称上颌隆突或腭隆突。表面覆盖黏膜较薄.受压后易产生疼痛。 12.腭小凹：是口内黏液腺导管的开口.位于腭中缝两侧.软硬腭连接处的稍后方.上颌全口义齿的后缘一般应在腭小凹后2mm左右处。
13.后堤区：前后颤动线之间的区域.为上颌基托后缘的边缘封闭区。
14. 颊棚区 15. 远中颊角区 16.磨牙后垫 17. 下颌隆突 18下颌舌骨嵴 19. 义齿间隙：是在口腔内容纳义齿的潜在空间。 20.固位：是指义齿抵抗从口内垂直脱位的能力。
21.稳定：是指义齿对抗水平和转动的力量.防止义齿侧向和前后向脱位。 22.吸附力：是两种物体分子之间相互的吸引力.包括附着力和粘着力。 23.附着力：附着力是指不同分子之间的吸引力。 24.粘着力：粘着力是指同分子之间的内聚力。
25.无牙颌印模：是用可塑性印模材料取得的无牙上、下颌牙槽嵴和周围软硬组织的印模。 26.一次印模：是选择与患者无牙颌大小、形态合适的成品托盘及用海藻酸印模材料或热塑性印模材料一次完成工作印模的方法。
27.二次印模：由初印模和终印模组成.是在患者口中取两次印模后完成工作印模的方法。 28. 模型：模型是灌注模型材料（石膏或人造石）于印模内形成的物体原型。 29. 颌位关系记录：是指用禾托来确定并记录在患者面部下1/3的适宜高度和两侧髁突在下颌关节凹生理位置时的上下颌位置关系.以便在这个上下颌骨的位置关系上.用全口义齿来重建无牙颌患者的正中禾关系。
30.垂直距离：为天然牙列呈正中牙合 时.即尖窝交错的接触关系时.鼻底至颏底的距离.也就是面部下1/3的距离。
31.水平颌位关系：两侧髁突在下颌后退接触位（RCP）时的上下颌位置关系。
32.转移颌位关系：转移颌位关系是将临床上所记录的患者上颌对于颞下关节的位置关系再现于禾架之上.以便在禾架上能很好地模仿人体的下颌运动.制作出符合患者口腔内生理环境的全口义齿。 33.上禾架：是将带有上下牙合 托的模型用石膏固定在给架之上.并保持上下颌模型间的高度和颌位关系.以便排牙。
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34. 全口义齿的平衡禾：全口义齿的平衡禾是指下颌在正中禾及前伸、侧方运动时.上下颌相关的牙齿都是能同时接触的一种咬合关系。 35. 定位平面斜度：从上中切牙近中切角至上颌7 7的近中颊尖顶相连而成的三角平面称为定位平面。定位平面与眶耳平面的夹角称为定位平面斜度。 36.牙尖工作斜面的斜度：是指下颌做前伸运动时.上后牙牙尖远中斜面或下后牙牙尖近中斜面与水平面间形成的夹角。 37. 个别托盘：根据患者的口腔情况和修复的需要而制作的托盘。 二、填空：
1.全口义齿是为 牙列缺失 患者制作的义齿（修复体）。
2. 全口义齿的修复对象是 牙列缺失 的患者.是为 无牙颌 患者解决全部天然牙的缺失和部分软、硬组织吸收与改变而制作的修复体。
3.全口义齿由 人工牙 和 基托 两部分组成。
4. 牙列缺失是指患者 上颌、下颌 或 上下颌 的天然牙全部缺失.是临床上常见的修复病例.多见于老年人。牙列缺失的最常见病因是 龋病 和 牙周病。
5. 牙列缺失患者的上下颌称为 无牙颌 。
6.在口腔前庭.唇、颊系带之间区域为 前弓区 .颊系带以后为 后弓区 。
7. 前颤动线为硬腭与软腭腱膜结合的部位；后颤动线又称为“啊”线.约从一侧翼上颌切迹延伸至对侧的翼上颌切迹。前后颤动线之间的区域.称为 后堤区 。作为上颌全口义齿后缘的封闭区.义齿基托组织面在此区域应向黏膜方向 突起 。
8.后堤区前后向宽度因腭部的形态不同可分为以下三种.即 硬腭平坦形 、硬腭高拱形 、 中间形 。
9.牙列缺失后.会出现牙槽嵴的吸收。吸收在缺失后前 3 个月最快. 3～5 个月吸收速度减慢.大约 6 个月后吸收速度显著下降.拔牙后 2 年吸收速度趋于稳定.每年以 0 .5 mm的水平吸收.将终生持续。因此.全口义齿修复的时机应在拔牙后 3～5 个月；确实急需的.最早也应在拔牙后 1 个月进行。一般情况下.一副普通的全口义齿.使用 3～4 年后应进行必要的调禾和衬层处理.使用 7～8 年后应予以重新修复。
10.牙列缺失后.牙槽嵴吸收多少与骨质致密度直接关系.由于上下颌骨内外侧骨板的密度不一.结果上颌牙槽嵴吸收方向 向上向内 .上颌牙弓逐渐变 小 ；下颌牙槽嵴吸收方向 向下向外 .下颌牙弓逐渐变 大 。
11.根据无牙颌的组织和全口义齿的关系.将无牙颌分成四个区.即 主承托区 、 副承托区 、 边缘封闭区 和 缓冲区 。 12. 义齿有三个表面.即 组织面 、 磨光面 、 咬合面 .对义齿的稳定和舒适有很大的影响。
13. 全口义齿能附着在上下颌骨上是由于 大气压力 和 吸附力 等物理作用的结果。
14. 吸附力包括附着力和粘着力。 附着力 是指不同分子之间的吸引力。 粘着力 是指同分子之间的内聚力。全口义齿的基托组织面和黏膜紧密贴合.其间有一薄层的唾液.基托组织面与唾液.唾液与黏膜之间产生 附着力 .唾液本身分子之间产生 粘着力 。
15.在全口义齿分类方法中.按牙列缺失情况分为 全颌全口义齿 和 单颌全口义齿 ；按牙列缺失后开始修复的时间分为 长期型全口义齿 、 即刻全口义齿 、 过渡性全口义齿 ；按义齿结构和支持形式分为 黏膜支持式全口义齿 、 混合支持式全口义齿 、 根支持式全口义齿 。
16.获取无牙颌的印模有多种方法.主要有:①根据取印模的次数.分为 一次印模法
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和二次印模法 ；②根据取印模时患者张口或闭口.分为 开口式印模 和 闭口式印模 ；③根据取印模时是否对黏膜造成压力.分为 黏膜静止式印模 和 黏膜运动式印模 。临床上常用的印模方法为 一次印模法 和 二次印模法 。
17. 托盘是承载印模材料在口内取得印模的工具.主要有 成品托盘 和 个别托盘 两种。上颌托盘的宽度应比上颌牙槽嵴宽 2～3 mm.周围边缘高度应离开黏膜皱襞约 2 mm.唇颊系带处呈 切迹 .托盘后缘两侧需盖过 翼上颌切迹 .后缘连线位应超过颤动线 3～4 mm；下颌托盘的高度和宽度应与上颌的托盘 相同 .后缘两侧应盖过 磨牙后垫 .舌侧沿舌沟 前行 。
18. 印模材料的种类较多.常用的印模材料有 藻酸盐类印模材料 、 硅橡胶印模材料 、 印模石膏 、 印模膏 等。目前最常用的是 藻酸盐类印模材料 .这种材料目前在国内被广泛采用。
19. 在无牙颌初印模上灌注石膏形成 初模型 .用来制作 个别托盘 。在无牙颌终印模上灌注石膏或人造石形成 终模型 (又称工作模型)。
20. 调拌石膏的方法为旋转调拌.调拌速度为每分钟 30 转左右.调拌时间大约 1分钟.到石膏调拌均匀细腻时开始灌注.灌模后静置约 半个 小时.石膏发热凝固后可立即脱模。
21. 模型形成的方法有 围模灌注法 和 一般灌注法 。
22. 模型边缘厚度以 3～5 mm为宜.模型最薄处也不能少于 10 mm。模型后缘应在腭小凹后不少于2 mm.下颌模型在磨牙后垫自其前缘起向后不少于10 mm。模型修整后底面要平.底座部分应为工作部分的 1/2 。
23. 当天然牙列存在时.上下颌骨的位置关系由紧密接触的上下牙列来保持的。有两个稳定的参考位.即 正中禾位 、 正中关系位 。当天然牙列缺失后.随之丧失 正中禾位 .唯一稳定参考位就是 正中关系位 了。
24. 颌位关系记录包括了 垂直关系记录 和 水平关系记录 两部分。 25.禾托由 基托 与 禾堤 两部分组成。
26. 确定处置距离的方法有 息止颌位法 面部比例测定法 面部外形观察法 。 27. 确定水平颌位关系的方法很多.一般归纳为以下三类.即 哥特式弓描记法 、 直接咬合法 、 肌监控仪法 。
28. 直接咬合法是指利用禾堤及禾间记录材料.嘱患者下颌后退并直接咬合在一起的方法。包括 卷舌后舔法 、 吞咽咬合法 、 后牙咬合法 、 鼓腮咬合法 。 30. 常用的暂基托材料有 基托蜡片 、 自凝材料 和 光固化基托塑料板 。 31. 制上禾堤.放入口内调改禾平面。要求禾平面的前部在上唇下缘以下约2 mm.且与 瞳孔连线 平行；禾平面的后部.从侧面观要与 鼻翼耳屏线 平行。禾堤的唇面要充分衬托出上唇.使上唇丰满而自然.禾堤后端整修成斜坡状。
32. 检查正中关系是否是正确方法有 扪测颞肌法 、 扪测髁突动度法 、 面部外形观察法 。
33. 禾堤唇面画标志线包括 中线 、 口角线 、 唇高线 和 唇低线 。 34.禾架的种类有四.分别是 简单禾架 、 平均值禾架 、 半可调节禾架 、 全可调节禾架 。
34. 人工牙根据所使用的材料主要有两大类 树脂牙 和 瓷牙 。根据后牙禾面形态分为两大类 解剖式禾面形态 和 非解剖式禾面形态。
35. 平衡禾的分类包括 正中平衡禾 、 前伸平衡禾 、 侧方平衡禾 。在非正中平衡禾中.根据上下牙接触的数目.分为 三点接触禾平衡 、 多点接触禾平衡 、 完全接触的禾平衡 。
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