碳、硅及其重要化合ç‰?/p>
建议用时ï¼?/p>
40
分钟
满分ï¼?/p>
100
�/p>
一、选择é¢?/p>
(
每题
6
分,å…?/p>
72
�/p>
)
1
ï¼?/p>
某短周期非金属元素的原子核外最外层电子数是次外层电子数的一半,
该元ç´?/p>
(
)
A
.在自然界中只以化合态的形式存在
B
.单质常用作半导体材料和光导纤维
C
.最高价氧化物不与酸反应
D
.气态氢化物比甲烷稳å®?/p>
答案
A
解析
由已知信息可知该非金属元素为硅ã€?/p>
硅强烈亲氧,
在自然界以氧化物或复杂硅é…?/p>
盐形式存在,不存在单质硅ï¼?/p>
A
正确;硅单质能用作半导体材料而不能用作光导纤维,制é€?/p>
光导纤维是用二氧化硅ï¼?/p>
B
错误ï¼?/p>
SiO
2
能与氢氟酸反应:
SiO
2
ï¼?/p>
4HF===SiF
4
↑+
2H
2
O
ï¼?/p>
C
错误ï¼?/p>
非金属性:
C>Si
,故
SiH
4
的稳定性弱于甲烷,
D
错误ã€?/p>
2
.半导体工业中,有一句行话:“从沙滩到用户”,即由
SiO
2
制取
Si
。制取过程中ä¸?/p>
涉及的化学反应是
(
)
A
ï¼?/p>
2C
ï¼?/p>
SiO
2
=====
高温
Si
�CO�/p>
B
ï¼?/p>
SiO
2
ï¼?/p>
2NaOH===Na
2
SiO
3
ï¼?/p>
H
2
O
C
ï¼?/p>
Si
ï¼?/p>
2Cl
2
=====
â–?
SiCl
4
D
ï¼?/p>
SiCl
4
ï¼?/p>
2H
2
=====
高温
Si
ï¼?/p>
4HCl
答案
B
解析
工业制取纯硅的工艺流程为ï¼?/p>
SiO
2
�/p>
�/p>
�/p>
C
粗硅â€?/p>
�/p>
�/p>
Cl
2
SiCl
4
�/p>
�/p>
�/p>
H
2
纯硅,该工艺流程
中不涉及
SiO
2
�/p>
NaOH
溶液的反应ã€?/p>
3
.硅是构成无机非金属材料的一种主要元素,下列有关硅的化合物的叙述错误的是
(
)
A
.氮化硅陶瓷是一种新型无机非金属材料,其化学式为
Si
3
N
4
B
.碳化硅
(SiC)
的硬度大,熔点高,可用于制作高温结构陶瓷和轴æ‰?/p>
C
.光导纤维是一种新型无机非金属材料,其主要成分ä¸?/p>
SiO
2
D
.硅酸盐
Na
2
Fe
2
Si
3
O
10
用氧化物的形式表示为
Na
2
O·2FeO·3SiO
2
答案
D
解析
正确的表示应该为
Na
2
O·Fe
2
O
3
·3SiO
2
,故
D
错误ã€?/p>
4
.近几年我国载人飞船多次升空,显示出我国航天技术已进入世界一流,飞船应用äº?/p>
许多尖端的合成材料。据报道我国科学家近年来研制出一种新型“连续纤维增韧”航空材
料,其主要成分是由碳化硅陶瓷和碳纤维复合而成的。下列相关叙述不正确的是
(
)
A
.它耐高温抗氧化
B
.它比钢铁轻,强度大,但质地较脆